Résistivité

Création

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Descritption de la résistivité

La résistivité d'un matériau, généralement représentée par la lettre grecque rho (ρ), indique sa capacité à résister au flux de courant. Elle correspond à la résistance N 1 d'une section de matériau d'un mètre de long et d'un mètre carré, exprimée par un ohmmètre (ou ohmmètre), symbole Ωm (ou Ω⋅m). Nous utilisons également. La susceptibilité magnétique permet de donner une indication sur le comportement magnétique du corps étudié :

• lorsque qu'elle est positive et de l'ordre de 10⁴ ou au-delà, le corps est dit ferromagnétique.
• lorsque qu'elle est positive et son ordre de grandeur est compris entre 10^-6 et 10^-3, le corps peut être paramagnétique, ferrimagnétique ou antiferromagnétique.
• lorsque qu'elle est vaut 0, le corps étudié est le vide par définition.
• lorsque qu'elle est est négative, le corps est dit diamagnétique. Généralement, l'ordre de grandeur est de -10^-5. Si la susceptibilité magnétique vaut -1, on a un corps diamagnétique parfait qu'on appelle supraconducteur.

En général, la susceptibilité magnétique est sensible à la température.

Protocole de prise de mesure de la susceptibilité magnétique

Principe

on souhaite mesurer la résistivité du cuivre avec deux différente méthodes. pour ce faire nous allons faire un dépôt sous forme de couche mince sur une plaque de silicium par pulvérisation magnétron

Description du matériel de mesure

Ci-dessous est décrit le matériel utilisé à LPGP (Laboratoire de physique des gaz et des plasmas université de Paris Saclay) pour acquérir les données postées sur ce wiki.

Démarche exprementales

Pour créer un plasma homogène de forte densité, nous allons procéder à une pulvérisation High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) et une Direct Current (DC). Le matériel utilisé pour ces deux méthodes est le même et la différence se fera au niveau de l’utilisation des compartiments et du magnétron. Dans le cas d’un DC, les atomes pulsés sont neutres et leur énergie se situe entre 0 et 10 eV. Le courant est continu et ne=1016 m-3, on augmente la densité de plasma pour ioniser les atomes et pouvoir gérer leur trajectoire. Dans le cas d’un HIPIMS, les atomes sont donc ionisés pendant un court temps et peuvent alors être polarisés ou non pour attirer les ions et contrôler leur énergie. Cette dernière est plus importante que lors d’un DC et si situe entre 0 et 100 eV avec ne=1020 m-3. On distingue ici les deux chambres de pressions différentes à gauche. Leur pression est respectivement indiquée devant la pompe (en rouge) avec en premier celle de la petite enceinte et ensuite celle de l’enceinte principale. En dessous des chambres, il y a un refroidisseur d’eau, maintenu à 13°C, qui permet de baisser la température lors de la mesure car les aimants chauffent et on peut perdre les lignes de champs. Le magnétron est déjà installé ainsi que le cuivre que nous allons utiliser. L'échantillon peut être analysé sous forme solide s'il est assez petit (moins de 5mm) ou être broyé sous forme de poudre. Il est ensuite placé dans un porte-échantillon ovoïde (petite capsule en forme d'œuf). Puis, le tout est inséré et bloqué dans une paille en plastique. On peut alors placer la paille dans le magnétomètre pour acquisition.

Pour faciliter la mesure, il faut que le porte-échantillon et la paille soient diamagnétique afin de ne perturber au minimum le champ que l'on veut faire subir à l'échantillon. Si c'est impossible, on peut faire une mesure avec un porte-échantillon vide afin de connaître son impact sur le champ magnétique et ainsi corriger a posteriori la réelle mesure.

Pour faire notre dépôt, nous allons utiliser une plaque en silice qui a été nettoyée au préalable dans un banc d’ultrason avec de l’acétone. Elle reposera 30 min dans l’acétone et 30 min dans l’alcool et nous aurons ainsi une plaque propre. Le porte échantillon utilisé est en cuivre car c’est un bon conducteur. On place, à l’aide d’un marqueur, quatre points aux extrémités de la plaque. Ces repères vont nous aider à déterminer l’épaisseur de la couche formée à la fin. En effet, pour mesurer la couche mince, nous allons prendre un coton scientifique imbibé d’acétone pour enlever le film au niveau de ces marques.

Description de la méthode HIPIMS

Pour ce premier dépôt, nous allons contrôler le flux de gaz et le maintenir à 3 Standard Cubic Centimeters per Minute, la distance entre la cathode et la cible sera de 3cm et ceci pour les deux mesures pour avoir des conditions similaires. Nous avons donc un pulser avec un réservoir d’énergie qui émet un courant continu pour charger le condensateur. Il y a un générateur de pulse qui donne lieu à la forme du pulse, au courant et à la tension. Ces derniers seront observés sur l’oscillateur qui va nous tracer ces paramètres lors de la pulvérisation. La sonde 1 correspond donc à la tension, la sonde 2 au courant et la sonde 3 au pulse. La pression dans l’enceinte principale est de 4,61.10-6 mbar et celle de la petite enceinte est de 3,06.10-6 mbar. Après le flux d’argon, la pression de travail devient alors 5,69.10-3 mbar. Lorsque le cache est fermé, nous avons un courant de 5 Ampère et une tension de 400 V. Le plasma qui se forme en HIPIMS est vert à cause du cuivre qui émet cette longueur d’onde lorsqu’il est excité. Le cache est arrêté au bout de 7 minutes et le condensateur est déchargé. Une fois le vide effectué, le substrat est récupéré minutieusement avec le bras. La porte de séparation est fermée et le vide est donc lancé pour la deuxième chambre pour pouvoir récupérer l’échantillon et l’analyser. Ayant une cathode petite, nous obtiendrons des films moins uniformes

Description de la méthode DC

Les manipulations pour ce deuxième dépôt sont similaires avec le dépôt par HIPIMS. Pour ce faire, on enlève le câble du magnétron et on met un câble plus fin car la puissance sera plus petite. Le flux est maintenu à 3,5 SCCM et la pression de travail est de 5 ,75.10-3 mbar. Lors de la première pulvérisation, la puissance était de 400x5= 2000 W ce qui est beaucoup pour une pulvérisation par DC. On aura ici une puissance plus faible qu’on essayera de maintenir autour de 55,2 W en modifiant les paramètres. La tension varie entre 339,0 et 347,3 V et le courant reste à 0,16 A. Lors de la pulvérisation, le plasma observé est blanc car on n’ionise pas de la même manière que pour le plasma précédent. La puissance doit être continu car le courant est continu d’où une puissance faible nécessaire. Le dépôt a duré 10 minutes et l’échantillon a été sorti dans les mêmes conditions que précédemment.

Définition du graphe de connaissances

Schema

Diagramme de classes ou modèle RDF (comme vue en cours)

Vocabulaire

Base

BASE <https://data.escr.fr/wiki/Résistivité_du_cuivre>

Préfixes

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PREFIX rdfs: <http://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#>
PREFIX xsd: <http://www.w3.org/2001/XMLSchema#>
PREFIX wd: <http://www.wikidata.org/entity/>

Propriétés

sample

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• Décrit le nom de l'échantillon étudié.

author

<author> rdf:type rdf:Property .

• Décrit le nom de l'expérimentateur.

date

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• Décrit la date à laquelle la mesure a été effectuée.

protocole

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• Décrit le protocole de la prise de mesure.

value

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• Décrit la valeur de la susceptibilité magnétique.

temperature

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• Décrit la température à laquelle la mesure a été faite, en °K.

precision

<precision> rdf:type rdf:Property .

• Décrit l'incertitude de la mesure.

inverse_value

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• Décrit l'inverse de la valeur de la susceptibilité magnétique.

Prises de mesures

cuivre

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CuCl₂ . 2H₂O

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                                                 <author> "Eric Rivière" ;
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YBaCuO

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                                              <author> "Eric Rivière" ;
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Commentaires sur les mesures

Fer

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19:29:14 04/12/2024 -- Actualiser -- Durée de la requête :0.023s -- CSV

Le fer est un métal naturellement aimanté à température ambiante, même en l'absence de champ externe : il est ferromagnétique. Sa susceptibilité magnétique est très élevé (supérieure à 10⁴).

La mesure a été effectuée sur une bille de fer avec une température constante de 5°K. Celle-ci est très éloignée de 1047°K, la température de Curie du fer (température critique au-dessus de laquelle le fer ferromagnétique devient paramagnétique). Pour les corps ferromagnétiques (et ferrimagnétiques), la susceptibilité magnétique reste constante sur toutes les températures largement inférieures à la température de Curie.

CuCl₂ . 2H₂O

Le chlorure de cuivre (II) dihydraté est paramagnétique, sa susceptibilité magnétique est faible. C'est un composé toxique, utilisé comme catalyseur ou colorant en pyrotechnie (flammes colorées). Comme tous les corps paramagnétiques, on s'aperçoit que l'inverse de la susceptibilité magnétique est proportionnelle à la température : on dit que le corps suit une loi de Curie.

YBaCuO

Les oxydes mixtes de baryum, de cuivre et d'yttrium peuvent être des supraconducteurs à des températures suffisamment basses.